2026深圳國際光刻膠産業技術展覽會

發布日期：2025-09-26 浏覽次數：4 狀態：

展會日期	2026-06-10 至 2026-06-12
展出城市	深圳
展出地址	深圳國際會展中心（新館）
展館名稱	深圳國際會展中心（新館）
主辦單位	2026深圳國際光刻膠産業技術展覽會-组委会

展會說明

2026深圳國際光刻膠産業技術展覽會

PCB光刻胶展览会 LCD光刻胶展览会半导体光刻胶展览会

時間：2026年6月10-12日

地點：深圳國際會展中心

█展會背景

光刻膠是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料，被譽爲半導體材料皇冠上的明珠，在半導體、新型顯示、印制電路板等泛半導體領域的生産中具有重要作用。隨著全球對半導體技術依賴程度的加深，光刻膠的重要性愈加凸顯。目前我國光刻産業的發展面臨著諸多挑戰。在光刻膠領域，國內高端光刻膠自給率低，研發和生産技術與國際先進水平有差距，産品性能和質量難以滿足高端芯片制造需求。濕電子化學品方面，部分高純度、特殊配方産品依賴進口，供應受限。掩模版的高精度制造技術難度大，高端掩模版原料主要依賴進口，供應受制于人，其快速修複和更新技術有待提升。光刻機更是被國外壟斷，高端光刻機如EUV光刻機難以獲得，國內光刻機企業在技術水平、制造精度、光源系統等方面與國際先進水平存在較大差距，成爲制約我國半導體産業發展的“卡脖子”環節。

为推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，同时加强下游需求应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流。2026深圳國際光刻膠産業技術展覽會将围绕集成电路、新型显示、PCB领域高性能光刻胶以及光刻胶专用树脂、光引发剂、颜料等原料技术与设备全方面展示和产学研用技术交流。是国内最主要的光刻胶领域行业盛会，一年一届。大会已成为推动国内高端光刻胶技术创新、加快核心技术突破与产业化应用、加强产学研用深度融合的重要平台，在行业产生了广泛的影响力。

█日程安排：

报到布展：2026年6月8-9日展出时间: 2026年6月10-12日

█頂級盛會（大會設贊助、協辦單位，詳情請致電組委會）

品牌展示高层论坛行业用户洽谈会外商采购会新技术新产品发布会

“搭建國際采購貿易平台、促進企業交流合作、提高參展效果”

————将是我们的目标！

彙集最新的銷售訊息，結識來自國內和國際的高質量買家群；

了解未來的産品需求，獲得最新的市場發展訊息；

通過行業分工合作以及産業鏈需求尋求新的商業機會；

發布新技術、展示新産品的絕佳平台，獲得市場推廣及品牌建設良機，提高行業認知度；

參加相關的論壇活動，獲悉行業發展趨勢、技術創新的最新資訊。

█展品範圍：

◆PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導體光刻膠。PCB（幹膜光刻膠、濕膜光刻膠以及光成像阻焊油墨）；LCD（彩色光刻膠、黑色光刻膠、觸摸屏光刻膠以及TFT-LCD光刻膠）；半導體（紫外光刻膠、深紫外光刻膠、極紫外光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠以及X射線光刻膠）等；

◆光刻材料： SOC、BARC/SiARC、光刻胶、TARC、Top Coating、稀释剂、冲洗液、显影液等；

◆光刻膠原材料（光引發劑/感光劑、樹脂、單體、溶劑、添加劑）等；

◆光刻膠專用試劑：稀釋劑/去邊劑、成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑、顯影液和剝離液等；

◆光刻技術、光刻膠與濕電子化學品、納米壓印、特種氣體、掩膜版與光刻材料與設備等；

◆設備：合成、純化、混合、過濾、光刻機、塗膠顯影設備以及後續的刻蝕、量測等設備；

█展會優勢：

發布年度新品——百余家媒體競相直播報道，是企業發布年度新品的重要渠道

了解行業趨勢——作爲行業“風向標”及“晴雨表”，第一時間展現市場動向及趨勢

維系重要客戶——這是業內人士都不會錯過的盛會，也是您會面維系老客戶，接待新客戶的好機會

參展、參觀詳情咨詢：

咨詢熱線：021-34513031

聯系人:錢先生13162771109

邮箱：baoliexpo@126.com

http://www.szgyqx.com

聯系方式
聯系人：錢先生
手機：

電話：

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